IBM突破技术瓶颈,推出全球首块7纳米晶片

据香港《经济日报》近日报道，国际商业机器（IBM）与合作伙伴突破瓶颈，推出全球首块7纳米（纳米为十亿分之一米）晶片，采用极紫外光（EUV）技术，容量是现时最强大晶片的4倍。IBM研究实验室宣布，与伙伴格罗方德半导体（Global Foundries）、三星和纽约州立大学纳米理工学院终于突破重大瓶颈，共同打造出全球首块7纳米晶片原型，进度超越英特尔（Intel）等竞争对手。IBM称，这款测试晶片首度在7纳米电晶体内加入一种叫做“矽锗”（silicon germanium,简称SiGe）的材料，并采用极紫外光微影技术。荷兰半导体设备大厂艾司摩尔（ASML Holding NV）本身研发的EUV设备叫价1.5亿美元，相较之下，这种微影系统售价只需5000万美元。科技顾问公司指，7纳米制程晶片至少还要等两年才能具有商业用途，但IBM与伙伴的突破仍具重大意义。首先，这款晶片采用的制程技术低于10纳米，还是第一款使用矽锗的10纳米以下FinFET逻辑晶片，另外也是全球第一个导入EUV技术、能有商业用途的晶片设计。